超高真空多腔室物理氣相沉積系統該系統由專業的沉積設備商制造,配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.

等離子體增強化學氣相沉積系統通常選用射頻淋浴源（RF）或帶有不規則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應源產生等粒子體。 部分PECVD可以升級到PECVD & 反應離子蝕刻雙功能系統（帶ICP源）

反應離子刻蝕系統為達到此目的，必須對真空度，氣體流量，離子加速電壓等進行佳調整，同時，為得到高密度的等離子體，需用磁控管施加磁場，以提高加工能力。 我司提供多型號的RIE刻蝕系統，滿足國內客戶研究和生產的需要。

臺式磁控濺射儀 該系統可以作為以下功能裝置： 1，研發級R&D鍍膜設備，性能優異 2，具備所有研發級別的鍍膜要求 3，高效的沉積速率，鍍膜時間快 4， 實驗室中培訓的工具

金屬有機化學氣相沉積系統（MOCVD）其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要。系統部件包括：反應器、氣體傳輸系統、電氣控制系統和尾氣處理系統。

超高真空多功能薄膜制備系統此系統可以配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵，或冷凝泵）。多種組合沉積模式，同一腔體實現多種功能沉積方式

有機分子束沉積系統電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等

在線量產型磁控濺射系統 在線量產型磁控濺射鍍膜系統 高轉換效率 · 大容量吸收，電池可靠性長達10年 抗輻射