多種薄膜沉積設備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發等。詳細介紹請登陸公司網頁。http://www.cross-tech.com.cn/

磁控濺射鍍膜機electron beam evaporation， 電子束蒸發； resistive evaporation，熱阻蒸發； ion beam assisted deposition （IBAD）， 離子束輔助蒸發鍍膜； effusion cell，瀉流源。

多功能磁控濺射儀，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發等。詳細介紹請登陸公司網頁。

狹縫擠出式涂布機粘度范圍：1-20000cps 應用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張 幅寬： 90mm, 120mm, 300mm

這款來自美國的微型磁控濺射系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優質的服務。

超高真空磁控濺射系統美國專業的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積，電子束蒸發沉積，脈沖激光沉積等領域有著20年制造經驗。

電子束蒸發鍍膜系統electron beam evaporation， 電子束蒸發； resistive evaporation，熱阻蒸發； ion beam assisted deposition （IBAD）， 離子束輔助蒸發鍍膜； effusion cell，瀉流源。

金屬有機化合物化學氣相沉積其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要。系統部件包括：反應器、氣體傳輸系統、電氣控制系統和尾氣處理系統.