一般都是以紅外鹵素燈為發熱元件，升溫速度極快，采用熱電偶測溫并采用*的PID控制，具有很高的控溫精度，快速退火爐具有真空裝置，可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。

真空快速退火爐RTPRTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）；注入退火；擴散；化合物半導體退火；滲氮；滲硅； 結晶化與致密化；

RT-1000快速退火爐采用全新概念的PG/PBN靜電加熱系統，該加熱系統主要由小尺寸的陶瓷加熱器、電傳導陶瓷PG(Pyrolytic Graphite)和電絕緣陶瓷PBN(Pyrolytic Boron Nitride)所組成。RT-1000響應快速、高效快速退火(RTA, Rapid Thermal Annealing)，可以在10秒鐘內快速升溫1000攝氏度，且在材料表面退火溫度均勻。