一般都是以紅外鹵素燈為發熱元件,升溫速度極快,采用熱電偶測溫并采用*的PID控制,具有很高的控溫精度,快速退火爐具有真空裝置,可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。
真空快速退火爐RTPRTA(快速熱退火); RTO(快速熱氧化);注入退火;擴散;化合物半導體退火;滲氮;滲硅; 結晶化與致密化;
RT-1000快速退火爐采用全新概念的PG/PBN靜電加熱系統,該加熱系統主要由小尺寸的陶瓷加熱器、電傳導陶瓷PG(Pyrolytic Graphite)和電絕緣陶瓷PBN(Pyrolytic Boron Nitride)所組成。RT-1000響應快速、高效快速退火(RTA, Rapid Thermal Annealing),可以在10秒鐘內快速升溫1000攝氏度,且在材料表面退火溫度均勻。